磁控溅射膜厚均匀性与靶-基距关系的研究

从理论上分析了平面磁控溅射靶沉积薄膜的厚度均匀性-根据磁控溅射阴极靶刻蚀的实际测量数据,建立了靶的刻蚀速率方程,以此为依据,对膜厚均匀性的有关公式进行了讨论-采用计算机计算了基片处于不同靶%基距时,膜厚均匀性的分布-研究结果表明,随着靶基距的增加,膜厚均匀性逐渐变好-在同样的靶基距下,沿靶长度方向的均匀性明显优于宽度方向-最后,通过实验证实了上述结论-